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當(dāng)前位置:首頁(yè)新聞資訊硅片甩干機(jī)廠家簡(jiǎn)述半導(dǎo)體硅中雜質(zhì)對(duì)性能的影響

硅片甩干機(jī)廠家簡(jiǎn)述半導(dǎo)體硅中雜質(zhì)對(duì)性能的影響

更新時(shí)間:2016-09-19點(diǎn)擊次數(shù):1732
   硅片甩干機(jī)廠家解釋在形態(tài)上,直拉單晶硅形狀一般為圓柱形,而鑄造多晶硅一般鑄造成硅錠,為方形。在質(zhì)量上由于單晶的工藝要求較高,其純度一般要求在六個(gè)九以上;而相對(duì)的,鑄造多晶硅的純度要求相對(duì)較低。在能耗上,單晶由于有拉晶的過程,相對(duì)能耗遠(yuǎn)大于鑄造多晶硅。而在晶體形狀上,單晶硅的形狀比較規(guī)則,其中晶體的缺陷明顯較少,而多晶硅只滿足短程有序,其形狀規(guī)則性較差。
 
  本征半導(dǎo)體Si、Ge等的四個(gè)價(jià)電子,與另四個(gè)原子構(gòu)成四個(gè)共價(jià)鍵,硅片甩干機(jī)廠家說明當(dāng)摻入少量的五價(jià)原子(如P、As)時(shí),就形成了n型半導(dǎo)體,由量子力學(xué)知識(shí)可知,這種摻雜后多余的電子的能級(jí)在禁帶中緊靠空帶處,DED~10-2eV,極易形成電子導(dǎo)電。則半導(dǎo)體中的電子變?yōu)橹饕d流子,在室溫下,除了本征激發(fā)之外還受到雜質(zhì)電離的影響,載流子濃度增加,使半導(dǎo)體的電導(dǎo)率上升;而當(dāng)摻入的雜質(zhì)為三價(jià)原子時(shí)(如B、Ga、In等),多余的空穴的能級(jí)在禁帶中緊靠滿帶處,DED~10-2eV,極易形成空穴導(dǎo)電,空穴為其主要載流子,與N型材料類似的,在室溫下,由于雜志電離效果的存在,摻雜后的半導(dǎo)體硅的載流子濃度增大,電導(dǎo)率增大。

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